스자좡에서는 어디에서 특허를 신청할 수 있나요?
절차:
(1) 발명특허 신청 1. 발명특허 신청 검토 및 승인 절차 특허출원 - 수리 - 예비심사 - 공개 - 실체심사 청구 - 실체심사 - 2. 발명특허에 필요한 출원서류 1) 청구서 : 발명특허의 명칭, 발명자 또는 설계자의 성명, 출원인의 성명 및 주소 등을 포함한다. 2) 설명: 발명 특허의 명칭, 기술 분야, 배경 기술, 발명 내용, 도면 설명 및 구체적인 구현 방법을 포함합니다. 3) 청구범위: 발명의 기술적 특징을 기술하고, 보호하고자 하는 내용을 명확하고 간략하게 기술합니다. 4) 설명의 도면: 발명 특허에는 도면이 있는 경우가 많습니다. 텍스트만으로 기술 솔루션을 명확하고 완전하게 설명하기에 충분하다면 도면이 필요하지 않습니다.
(2) 실용신안 특허 출원 1. 실용 신안 특허 출원 심사 및 승인 절차 특허 출원 - 수리 - 예비 심사 - 공고 - 승인 2. 실용 신안 특허 출원에 필요한 서류 1) 신청서 : 실용신안 포함 특허의 명칭, 발명자 또는 설계자의 성명, 출원인의 성명 및 주소 등 2) 지침: 실용신안 특허의 명칭, 기술 분야, 배경 기술, 발명 내용, 도면 설명 및 구체적인 실시 방법을 포함합니다. 설명의 내용은 자세하게 작성되어야 하며, 설명된 기술 내용은 해당 기술 분야의 일반 기술자가 읽은 후 구현할 수 있어야 합니다. 3) 청구범위: 실용신안의 기술적 특징을 설명하고 보호하려는 내용을 명확하고 간략하게 기술합니다. 4) 설명서의 도면 : 실용신안특허에는 반드시 도면을 첨부하여야 합니다. 5) 명세서 요약: 발명이 해결하려는 기술적 과제, 문제를 해결하기 위한 기술방안의 요점 및 주요 용도를 명확하게 반영합니다.
(3) 외관특허 출원 1. 절차 외관특허출원 특허출원 - 수락 - 예비심사 - 공고 - 허가 2. 외관특허에 필요한 서류 1) 청구서 : 디자인특허명, 설계자명, 성명, 직위, 주소 등 포함 . 디자인 사진 또는 사진: 그림 또는 사진 2세트 이상(정면도, 후면도, 평면도, 하단도, 좌측도, 우측도, 필요에 따라 입체도) 디자인에 대한 간략한 설명: 에 대한 간략한 설명 필요한 경우 디자인을 제출해야 합니다.
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절차
(1) 특허 부여 원칙:
특허법의 기본 원칙에 따르면 동일한 발명에 대해 하나의 특허권만 부여될 수 있습니다. . 동일한 발명에 대해 2인 이상의 특허 출원을 하는 경우에는 두 가지 원칙이 있습니다. 하나는 최초 발명 원칙이고 다른 하나는 최초 출원 원칙입니다. 선발명 원칙은 동일한 발명에 대해 2인 이상이 특허출원을 한 경우에는 출원 시점에 관계없이 먼저 발명을 한 사람에게 특허권이 부여된다는 의미입니다. 그러나 이 원칙을 채택할 경우 최초 발명자가 누구인지를 판단하는 데 실무적인 어려움이 많이 따르기 때문에 현재는 미국, 캐나다, 필리핀 등 세계에서 소수의 국가만이 이 특허출원 원칙을 채택하고 있다. 소위 선출원 원칙은 동일한 발명에 대해 2인 이상이 개별적으로 출원한 경우, 먼저 출원한 사람이 먼저 출원한 순서에 관계없이 가장 늦은 사람에게 특허권이 부여된다는 의미입니다. 중국과 세계 대부분의 국가는 이 원칙을 채택하고 있습니다.
(2) 특허 심사 절차:
국가마다 특허 출원 심사에 대한 요구 사항이 다르며 기본적으로 두 가지 다른 시스템을 구현합니다. 일부 국가에서는 정식 심사 제도를 시행하고 있는데, 이는 특허 출원의 형식이 법률 요건을 충족하는지 여부만 심사하고, 발명이 신규성 등 실질적 조건을 충족하는지 여부는 심사하지 않습니다. 일부 국가에서는 출원의 형식만을 심사하는 것이 아니라 발명이 신규성, 진보성, 실용성 등의 조건을 충족하는지에 대한 실체심사를 실시하는 실체심사제도를 시행하고 있으며, 위의 특허조건을 충족하는 발명에 대해서만 부여됩니다. 특허권. 중국과 세계 대부분의 국가는 실체심사제도를 채택하고 있다.